砷化鎵(GaAs)晶體的化學(xué)穩(wěn)定性好,硬度高,抗惡劣環(huán)境能力極強(qiáng)。它在2000nm-14000nm光譜范圍內(nèi)有很好的透過率,廣泛應(yīng)用于熱紅外成像系統(tǒng),大功率CO2激光光學(xué)系統(tǒng)和FLIR系統(tǒng),在現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境很差,光學(xué)鏡頭和窗口需要反復(fù)擦拭的情況下,砷化鎵常被用來代替硒化鋅作為紅外鏡頭或窗口的材料。
砷化鎵的應(yīng)用十分廣泛,主要涵蓋集成電路、光電子、微電子以及太陽能電池等多個(gè)領(lǐng)域。
首先,在集成電路方面,砷化鎵因其優(yōu)異的電學(xué)性能,被廣泛應(yīng)用于制作集成電路襯底。這些襯底為高頻、高速的電子器件提供了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ),使得砷化鎵在微波器件和無線通信設(shè)備中的功率放大器等領(lǐng)域有著舉足輕重的地位。
其次,在光電子領(lǐng)域,砷化鎵的應(yīng)用同樣出色。砷化鎵激光器因其小型化、高功率等優(yōu)點(diǎn),在雷達(dá)制造等軍事領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。此外,砷化鎵還用于制造發(fā)光二極管(LED)等產(chǎn)品,為照明和顯示技術(shù)的發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。
在微電子方面,砷化鎵作為基體材料,通過直接離子注入自對(duì)準(zhǔn)平面工藝,可以研制出高速數(shù)字電路、微波單片電路、光電集成電路以及低噪聲、大功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管等。這些器件具有速度快、頻率高、功耗低等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備中。
最后,在太陽能電池領(lǐng)域,砷化鎵也展現(xiàn)出了其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。砷化鎵太陽能電池外延片的使用可以顯著提高電池的轉(zhuǎn)換效率,從而推動(dòng)可再生能源的發(fā)展。這一應(yīng)用不僅體現(xiàn)了砷化鎵在能源領(lǐng)域的潛力,也為其在環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展方面做出了貢獻(xiàn)。
綜上所述,砷化鎵的應(yīng)用領(lǐng)域廣泛且多樣,其在集成電路、光電子、微電子以及太陽能電池等領(lǐng)域的出色表現(xiàn),充分展示了其作為半導(dǎo)體材料的重要性和潛力。
?可加工形狀 | 圓形、矩形、多邊形及其他形狀 |
尺寸范圍 | 直徑(最大對(duì)角線):Φ8-Φ100mm |
厚度:0.05-50mm | |
面型 | 反射PV優(yōu)于1/4λ,透射PV優(yōu)于1/10λ |
光潔度 | 10-5 20-10 40-20 |
表面粗糙度 | 小于5nm |
平行度 | 小于20″ |
鍍膜 | 可根據(jù)客戶要求定制鍍膜 |
如果您有需求,請(qǐng)給我們機(jī)會(huì)為您提供定制報(bào)價(jià)。
密度( g/cm3) | 5.32 |
熔點(diǎn)(℃) | 1238 |
熱膨脹系數(shù)(1/℃) | 5.7*10^-6@300K |
介電常數(shù) 靜態(tài)/高幀 | 12.85/10.88@300K |
體彈模量(GPa) | 101.32 |
剪切模量(GPa) | 55.66@298K |
熱導(dǎo)率(J/k.m.s) | 55@300K |
熱容量(J/g.k) | 0.32 |
knoop硬度(kg/mm2) | 731 |
水溶性(g/l) | 1.7 |
楊氏模量(GPa) | 138.5@298K |
泊松比 | 0.31@293K |
通過波長范圍 | 1000nm-14000nm |
吸收系數(shù)(1/cm) | 0.01@1500nm-11000nm |
熱光系數(shù) ,dn/dT(1/K) | 160-120*10^-6%@3000nm-12000nm |
波長(nm) | 折射率(n) | 波長(nm) | 折射率(n) |
4000 | 3.31 | 14500 | 2.82 |
8000 | 3.34 | 15000 | 2.73 |
10000 | 3.13 | 17000 | 2.59 |
11000 | 3.04 | 19000 | 2.41 |
13000 | 2.97 | 21900 | 2.12 |
13700 | 2.89 |